13 thí sinh tự tin thể hiện bản thân buổi thi tuyển KTV Công ty EPS
13 thí sinh tự tin thể hiện bản thân buổi thi tuyển KTV Công ty EPS
LETCO – Sáng ngày 06/11, tại Khoa cơ khí, trường Đại học Công nghiệp Hà Nội, 13 thí sinh chính thức bước vào buổi thi tuyển Kỹ thuật viên Công ty EPS (Expert Power Shizuoka), Nhật Bản. Các em bước vào buổi thi với sự tự tin và quyết tâm cao độ.
Tại buổi thi này, các thí sinh phải thực hiện các phần thi như sau:
Buổi sáng bao gồm: Kiểm tra kỹ thuật: Vẽ 60 phút; CATIA (xử lý tương tác trong không gian ba chiều có sự hỗ trợ của máy tính) 2 bài, mỗi bài 30 phút.
Buổi chiều, kiểm tra tiếng Nhật các thí sinh tối thiểu phải đạt trình độ tối thiếu, tương đương N4.
Buổi thi tuyển diễn ra trước sự giám sát trực tiếp từ phía công ty EPS
Tất cả các phần thi, đều được diễn ra trước sự giám sát trực tiếp từ phía công ty EPS. Theo đó, kết quả của các thí sinh sẽ được công bố ngay cuối buổi thi tuyển. Phần thi của các thí sinh đạt hay không đạt sẽ dựa trên kết quả các phần thi và yêu cầu của phía công ty EPS.
Bài thi CATIA dưới sự hỗ trợ của máy tính
Trước đó, để có mặt trong buổi thi tuyển này, các em đã phải trải qua quá trình học tập về chuyên môn và đào tạo tiếng Nhật theo giáo trình bài bản tại LETCO. Ngoài ra, các em còn được các bộ nhân viên của LETCO chỉ dẫn kỹ lưỡng về tác phong, kỹ thuật phỏng vấn, và các thức “ghi điểm” trước mắt nhà tuyển dụng Nhật Bản, cụ thể đây là công ty EPS.
Hầu hết các thí sinh đều tự tin thể hiện phần thi
Chính vì thế, hầu hết các em tỏ rõ sự tự tin và quyết tâm cao độ tại buổi thi tuyển. Đây cũng là dịp mà các em thể hiện những kiến thức và kinh nghiệm của bản thân tích lũy được. Là cơ hội các em được làm việc trong một công ty có tiếng tại Nhật Bản với mức lương cao, giúp các em có cơ hội cải thiện cuộc sống.
Hơn thế nữa, tại môi trường làm việc tiêu chuẩn như Nhật Bản, ngoài việc có thu nhập ổn định, các em còn được học hỏi, gia tăng kiến thức, nâng cao giá trị bản thân. Những kiến thức đó sẽ là hành trang hữu hiệu cho tương lai sau này của các em.
Trần Bình
